Sputtered Ge-Si heteroepitaxial thin films for photodetection in third window (Articolo in rivista)

Type
Label
  • Sputtered Ge-Si heteroepitaxial thin films for photodetection in third window (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • Feré M.; Lanata M.; Piccinin D.; Pietralunga S. M.; Zappettini A.; Ossi P. M.; Martinelli M. (2008)
    Sputtered Ge-Si heteroepitaxial thin films for photodetection in third window
    in Proceedings of the IEEE
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • Feré M.; Lanata M.; Piccinin D.; Pietralunga S. M.; Zappettini A.; Ossi P. M.; Martinelli M. (literal)
Pagina inizio
  • 270 (literal)
Pagina fine
  • 272 (literal)
Rivista
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note
  • In: Proceedings of the Ieee, pp. 270 - 272. Institute of Electral and Electronics Engineers, Inc, 2008. (literal)
Note
  • ISI Web of Science (WOS) (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • CoreCom, via G. Colombo, 81 20133 Milano - ITALY, CNR-IMEM, Parma, Politecnico di Milano, P.zza L. da Vinci, 32 20133 Milano-Italy (literal)
Titolo
  • Sputtered Ge-Si heteroepitaxial thin films for photodetection in third window (literal)
Abstract
  • DC-Pulsed Magnetron Sputtering (PMS) allows to produce heteroepitaxial p-type Germanium thin films on 6” Silicon wafers. Integrated p-n photodiodes, based on DC-PMS deposited Ge/Si heterojunctions, feature flat responsivity over the whole third communication window. (literal)
Prodotto di
Autore CNR
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